不用EUV光刻机？中芯传好消息，7nm获突破，5nm也在研发
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中芯的好消息
各国都十分注重芯片制造的研发实力，掌握先进芯片设计水准还不够，能够拥有领先全球的芯片制造能力，才是真正的硬实力。而我国的中芯国际同样不俗，在全球芯片制造企业当中，至少也能跻身前五名。
去年中芯国际的14nm制程工艺就已经达到了量产水准，，但14nm显然不会是终点。14nm属于中端技术范畴，真正面向高端的起码也是7nm水准。
关于7nm芯片，中芯传来了一则好消息，或不用EUV光刻机也能制造。据悉，中芯国际7nm已经获得突破，准备在今年4月份尝试风险生产。
由于7nm制程工艺特殊，不需要极紫外光（EUV）也能靠深紫外光（DUV）生产。2018年中芯国际曾花了1.2亿美元购买一台EUV光刻机，可是受到某些国家的阻挠，这台光刻机迟迟没有发货。
倒是DUV光刻机能顺利进购，虽然DUV光刻机和EUV有一定的差距，但只要经过多重曝光和特殊工艺处理之后，也是能达到生产7nm芯片水准的。
有了设备，技术上也已经获得突破基本上就差实际运用生产线了。所以中芯的好消息可谓是十分关键的，其实不只是7nm，5nm也已经开始研发。好几项技术也均有部署，只差未来能获得EUV光刻机的支持。
捷报连连
或许在一些人眼中，目前掌握的14nm量产工艺太落后了。可实际上14nm足够满足生产中大部分所需，只有少部分电子设备才用得上高端芯片。所以巩固当前的工艺，再去拿出部分研发力量去攻克高端制程才是最好的选择。
一旦实现7nm量产的那一天，5nm还会远吗？而且关于7nm芯片，除了传来获得突破的好消息之外，还有一则重要消息也足以振奋人心。
据上海市2021年重大项目建设清单中，就有中芯国际一座12英寸晶圆厂的建设项目，目前的状态是正在建设中。这座工厂可以覆盖14nm芯片，以及作为将来7nm的生产节点。这意味着一旦12英寸晶圆厂建成，距生产7nm又更近了一步。
结合过去一段时间的消息来看，可谓是捷报连连。先是7nm获得突破，即将在4月份展开风险试产计划，然后便是在上海建设一座12英寸晶圆厂，未来可对接7nm。这些消息均与7nm有关，到了7nm才算是真正迈入高端芯片时代。
要知道，全世界只有台积电和三星掌握了7nm生产工艺，希望中芯国际会成为第三个。
总结
芯片制造是一项繁杂的工序，全球众多的芯片制造公司，能够进入10nm的并没有几个。但中芯国际已经取得显著的成绩，14nm已实现稳定量产，12英寸晶圆厂也在建设，7nm更是取得突破。
每一次的进步都是可见的，相信这只是开始，7nm终将取得量产，5nm正在研发也一定能突破。
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