苹果 Face ID 技术或迎革新,屏下 Face ID 方案有望到来
作者：微信文章近日，外媒 patentlyapple 爆料表示，苹果最新专利技术已经公布，据悉将会把 Face ID 组件隐藏到屏幕下方，届时单孔方案或屏下方案的 Face ID 方案有望到来。
据悉，该专利技术可以将屏幕上的 “像素移除区域” 与传感器部分重叠，并提出了多种移除方案以便提升光线透过率。不过考虑到目前技术水准，尽管已经有相对成熟的屏下摄像头方案，但完全一致的效果仍然有很长的技术积累之路要走。但苹果目前这一举措无疑已经将屏下方案提上日程，但考虑到苹果公司方面在重大革新技术尤其是设计上的 “稳重”，屏下 Face ID 方案能否会在 2026 年顺利应用，仍有待后续技术相关爆料。
根据现有爆料来看，今年下半年的 iPhone 17 系列仍将采用灵动岛设计，不过其面积将会进一步缩小，类似于 “药丸” 挖孔屏。
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